Desenvolvimento de um sistema de deposição de filmes finos pela tecnica de "sputtering" com aplicação a filmes de Ta e TaN

Neste trabalho foi desenvolvido o sistema de deposição de filmes pela técnica de "sputtering" D.C., com aplicação ao Tântalo e seus compostos. O equipamento foi projetado e construído dentro da opção de se utilizar o máximo de recursos e tecnologias nacionais. Diversos acessórios, necessários à operação do sistema, foram projetados e construídos localmente, e apresentam algumas novidades em suas concepções. O sistema foi montado e caracterizado dinamicamente, variando-se as condições de bombeamento, as pressões de operação, a tensão e corrente de deposição. e a natureza do conjunto de gases utilizado. Como aplicação ao trabalho realizado foram depositados e analisados filmes finos com.base no Tântalo, visando a obtenção de tecnologia para a realização posterior de componentes eletr6nicos. Foram obtidos filmes de Nitreto de Tântalo, em condições de repetibilidade, com resistividade de "plateau" da ordem de 250 mOcm e coeficiente de temperatura da resistividade melhor que -100 ppm °c-1, sem o uso complementar de "annealing", oxidação e envelhecimentoNot informe